大晶新材料科技有限公司这家公司，4500吨光刻胶项目投产

用户投稿 2025年10月31日 18:04:02 6 0

这家公司，4500吨光刻胶项目投产

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合

久日新材表示，公司年生产面板光刻胶4000吨和半导体光刻胶500吨。

近日，久日新材发布公告，该公司在控股孙公司徐州大晶新材料科技集团有限公司投资建设的“徐州大晶新材料科技集团有限公司（下称“大晶新材”）年产4500吨光刻胶项目”现已完成建设，试生产方案业经专家组评审通过，于11月19日起正式进入试生产阶段。

该公司表示，上述项目为年生产面板光刻胶4000吨和半导体光刻胶500吨，将推动其光刻胶产品产业化进程，实现光刻胶产品的规模化生产，增加新的利润增长点。

据《科创板日报》报道，今年11月19日，久日新材披露投资者关系活动记录表显示，其子孙公司大晶新材4500吨/年光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶、TFT正性面板光刻胶等产品，预计今年12月底前投产。项目投产后，产能将逐步释放，具体达产时间将受到生产情况、市场需求、客户订单等因素的影响。

此外，久日新材表示，该公司已研发多款半导体i-线光刻胶、发光二极管g-线/h-线光刻胶和面板光刻胶，并已进入下游客户送样测试阶段，其中部分产品已通过测试正式供货。

对此，有半导体新材料行业人士对表示，一方面，大晶新材光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶波长为365nm、436nm，主要用于250nm以上的工艺，属于中低端光刻胶；另一方面，该项目为年生产半导体光刻胶500吨，属于小规模试生产阶段。

“目前国内中低端光刻胶领域，已有很多公司实现量产，且规模很大，如：南大光电、北京科华等。”该半导体新材料行业人士进一步表示。

从中低端市场光刻胶市场渗透率看，“目前国内市场需求很大，国内成熟制程应用广泛，随着技术的不断进步和国产化进程的加速，市场需求将持续增长。” 上述半导体新材料行业人士表示。

久日新材主要从事光引发剂的研发、生产和销售，产品应用于电器/电子涂装、印刷线路板制造、3D打印、半导体、光刻胶等行业。

财报显示，今年前三季度，该公司营业收入为11.24亿元，同比增长26.00%；归母净利润亏损2412.96万元，上年同期亏损5715.74万元；扣非净利润亏损3214.73万元，上年同期亏损7422.71万元。

JSR韩国EUV光刻胶工厂，开建

据韩国产业通商资源部官网新闻稿，半导体光刻胶巨头日本 JSR 在韩国忠清北道清州举行 MOR（金属氧化物）光刻胶生产基地的奠基仪式。

该生产基地由 JSR 在韩子公司 JSR Micro Korea 建设，将生产可用于 EUV 光刻的 MOR 光刻胶，目标 2026 年建成投产。这也是韩国境内的首个同类光刻胶工厂。

适用于 EUV 制程的 MOR 光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶，在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro Korea 新工厂有望直接向韩国本土两大半导体制造巨头三星电子、SK 海力士供货，保证光刻胶供应稳定可靠。

JSR 于 2003 年在忠清北道梧仓首次设立工厂，并不断扩大其在韩国的业务。这个最新项目将拥有世界上第一个半导体级 EUV MOR 生产设施。

韩国仍然严重依赖日本进口光刻胶，而光刻胶是半导体和显示器制造所必需的。不过，近年来，韩国国内生产举措已稳步减少了进口量。

行业分析师预测，JSR 的新生产基地将大幅增加韩国本土光刻胶的份额。2019 年，日本对关键光刻胶材料的出口限制导致韩国出现供应链危机。这引发了韩国国内生产的推动，吸引了众多半导体材料供应商来到该地区。

韩国贸易和投资部部长Dae-ja Kim,出席了奠基仪式。据《每日经济新闻》报道，该仪式被视为日本出口限制有效解除的信号。Kim在仪式上表示：“我们的目标是支持 JSR 的投资成功，并与忠北省和清州市合作开展更多项目。我们的政策将侧重于将韩国定位为全球高科技产业中心。”

韩国关税厅（KCS）的数据显示，过去五年来，韩国从日本进口的半导体光刻胶数量持续下降。 进口量从 2020 年的 992.6 吨下降到 2023 年的 668.7 吨，再到 2024 年 1 月至 10 月的 539.4 吨。尽管进口量有所下降，但日本在 2024 年仍供应了韩国约 95% 的光刻胶。JSR 的目标是到 2026 年完成 EUV MOR 的建设并开始量产。

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产业化进程加速！久日新材年产4500吨光刻胶项目投产

《科创板日报》11月19日讯（记者吴旭光） 今日（11月19日）晚间，久日新材发布公告，该公司在控股孙公司徐州大晶新材料科技集团有限公司投资建设的“徐州大晶新材料科技集团有限公司（下称“大晶新材”）年产4500吨光刻胶项目”现已完成建设，试生产方案业经专家组评审通过，于11月19日起正式进入试生产阶段。

体现在半导体光刻胶应用领域方面，《科创板日报》记者注意到，今年11月19日，久日新材披露投资者关系活动记录表显示，其子孙公司大晶新材4500吨/年光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶、TFT正性面板光刻胶等产品，预计今年12月底前投产。项目投产后，产能将逐步释放，具体达产时间将受到生产情况、市场需求、客户订单等因素的影响。

对此，有半导体新材料行业人士对《科创板日报》记者表示，一方面，大晶新材光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶波长为365nm、436nm，主要用于250nm以上的工艺，属于中低端光刻胶；另一方面，该项目为年生产半导体光刻胶500吨，属于小规模试生产阶段。

“目前国内中低端光刻胶领域，已有很多公司实现量产，且规模很大，如：南大光电、北京科华等。”该半导体新材料行业人士进一步表示。

对此，《科创板日报》记者多次致电久日新材证券部，但截至发稿尚未得到相关回复。

从中低端市场光刻胶市场渗透率看，“目前国内市场需求很大，国内成熟制程应用广泛，随着技术的不断进步和国产化进程的加速，市场需求将持续增长。” 上述半导体新材料行业人士表示。

久日新材主要从事光引发剂的研发、生产和销售，产品应用于电器/电子涂装、印刷线路板制造、3D打印、半导体、光刻胶等行业。